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光催化廢氣處理設備工作原理和特點?

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光催化廢氣處理設備的主要原理一是利用高能光波照射在汙染物上,使其直接參與光解反應;二是光波激發半導體催化劑,使其具備氧化還原反應的能力,達到氧化降解汙染物的目的;三是者通過植物吸收高能子後,產生生物效應和化學效應,從而使有機物降解
      
由於活性炭具有能夠再生的特點,在活性炭用量大、廢氣濃度高及活性炭吸附飽和時間短的情況下,可使用活性炭脫附裝置對活性炭進行再生循環使用(脫附介質可使用蒸汽)。使用活性炭脫附裝置不但可以節約運行成本,而且能夠對吸附的廢氣進行回收,同時避免了二次汙染。
    在不回收溶劑的情況下,還可以選用光催化氧化活性炭再生裝置對活性炭進行再循環使用該設備核心中的納米光催化觸媒材料(GC-100)是一種吸收光能後,能在其表麵產生催化反應的物質,其功能類似於植物的葉綠素。當特定納米波長的紫外光照射光催化觸媒材料(GC-100)時,其表麵發生光催化氧化還原反應。光催化觸媒材料(GC-100)吸收光子後在其表麵產生電(E—)和空穴(H+),將吸收的光能轉化成化學能,即具有光催化作用。當光催化觸媒材料(GC-100)與空氣中的水接觸時,表麵就吸附H2OOH被空穴(H+)所氧化,O2被電子(E—)還原,反應室如下:H2O+ H+ OH.+H+O2+ EO2—.  OH—基團的氧化能力較強,使有機物氧化,逐步分解為水和CO2

 


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